產品詳情
對比實驗：普旭真空泵在ALD工藝中的能耗效率超競品26%
應用場景 在半導體原子層沉積（ALD）工藝中，真空泵需高頻次在真空與進氣狀態(tài)間切換，以精確控制單原子層沉積。傳統真空泵因持續(xù)全功率運行及無效熱能浪費，導致能耗居高不下，成為ALD設備綜合成本攀升的主因之一。普旭油式真空泵通過智能變頻與熱能回收技術，顯著降低能耗，助力半導體企業(yè)實現綠色制造。
產品特點
1. 變頻動態(tài)調功技術
- 根據ALD工藝周期（如抽真空-前驅體注入-吹掃）自動調節(jié)功率，待機功耗僅需額定功率的15%，較定頻泵能耗降低30%。
- 支持0.1秒級響應速度，確保腔室壓力波動≤±0.8%，保障膜厚均勻性（±1.5%以內）。
2.熱能循環(huán)利用系統
- 內置油路換熱器，將真空泵運行產生的廢熱（油溫70~90℃）回收，用于預熱工藝氣體，減少外圍加熱模塊能耗達20%。
- 油溫智能PID控制（±2℃精度），避免高溫導致潤滑油劣化。
3. 低殘油污染設計
- 采用**三級油霧過濾系統**（機械離心+靜電吸附+HEPA），油蒸氣殘留量＜0.005mg/m3，避免前驅體污染，提升薄膜純度。
性能參數對比
核心優(yōu)勢
指標
普旭油式真空泵
競品A（干泵）
競品B（傳統油泵）
額定功率
7.5kW
10kW
9kW
年綜合電耗
￥6.2萬（10萬小時）
￥8.4萬
￥7.8萬
熱能回收效率
≥75%
無此功能
無此功能
維護成本（年/臺）
￥1.5萬
￥3.8萬
￥2.6萬
? 工藝穩(wěn)定性提升：壓力波動減少40%，薄膜均勻性達±1.2%（競品平均±2.5%）。
? 長壽命設計：潤滑油更換周期延長至8000小時，維護頻率降低60%。
普旭油式真空泵通過變頻動態(tài)調功與熱能循環(huán)利用兩大核心技術，在ALD工藝中實現能效跨越式突破，綜合能耗較競品降低26%。其高精度壓力控制與超低殘油污染特性，不僅滿足先進半導體器件對薄膜質量的嚴苛要求，更通過節(jié)能降耗助力企業(yè)達成碳中和目標。隨著ALD技術在邏輯芯片、存儲器件及功率半導體領域的廣泛應用，普旭真空泵將成為半導體設備廠商提升市場競爭力的關鍵伙伴。
